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納米二氧化硅研磨分散機,應(yīng)對納米二氧化硅漿料的分散,研發(fā)出新型設(shè)備,高剪切研磨分散機,將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備,納米級漿料進(jìn)入研磨分散后,先進(jìn)行研磨將團(tuán)聚體打開,然后再經(jīng)過分散工作組,進(jìn)行分散,避免再次團(tuán)聚。
產(chǎn)品型號:GMD2000
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
更新時間:2025-11-18
訪 問 量:19
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納米二氧化硅研磨分散機
納米二氧化硅分散應(yīng)用:
納米二氧化硅分散在多個領(lǐng)域都有著重要的應(yīng)用,如:改性樹脂,改性紡織材料,改性涂料,改性橡膠等等。改性的效果取決于分散的效果,粒徑越小分散越均勻,分散效果就越好。SID研磨分散機獨特的結(jié)構(gòu),全新的技術(shù),專業(yè)應(yīng)對于納米級物料的分散,先研磨后分散,避免團(tuán)聚,分散效果好。
納米物料分散的難點:
對于納米的物料分散一直是人們關(guān)注的熱點,納米分散存在著難以解決的問題,納米物料分散到流體物質(zhì)當(dāng)中容易形成二級團(tuán)聚體,導(dǎo)致物料粒徑變大,難以分散。面對這種情況,SID研發(fā)出新型設(shè)備-研磨分散機,應(yīng)對納米物質(zhì)的分散問題。并有著廣泛的實例,如納米級白炭黑的分散,納米級石墨烯的分散,都在使用SID研磨分散機進(jìn)行分散處理。

納米研磨分散機簡介:
GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。
納米二氧化硅研磨分散機
納米研磨分散機參數(shù):
1、主軸轉(zhuǎn)速:0-14000rpm;
2、特殊結(jié)構(gòu):初級為磨頭結(jié)構(gòu),第二級為分散盤結(jié)構(gòu);
3、線速度;0-44m/s;
4、處理量:0-10000L/H;
5、材質(zhì):與物料接觸部分均為316L不銹鋼;
納米研磨分散機特點:
①線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。
②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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